Hochpräzise Active-Alignment-Lösung für Optik- und Halbleiteranwendungen

Das MP220-4 Miniatur-XY-Phi-Delta Positioniersystem von Steinmeyer Mechatronik ermöglicht kleine, sehr genaue lineare Bewegungen in X und Y sowie rotative Korrekturen um die X- und Y-Achse (Rx/Ry) und ist speziell auf die Anforderungen der modernen Halbleiter- und Optikfertigung zugeschnitten. Der für den industriellen 24/7-Dauereinsatz entwickelte Aligner zeichnet sich durch eine hervorragende Wiederholgenauigkeit (± 0,5 µm linear, ± 0,003° rotatorisch), eine hohe Traglast (bis zu 10 kg), eine kompakte Bauform (235 × 220 × 100 mm) sowie ein großes Durchlicht (Apertur Ø 45 mm) aus. Er ist eine ideale Lösung für automatisierte Active-Alignment-Prozesse sowie Durchlichtmessungen und auch für Optik-Messungen mit aktivem optischem Pfad nutzbar.

Kombinierte XY-, Kipp- und Delta-Bewegungen

Zentrales Element ist eine spielfrei vorgespannte Kardan-Kinematik auf einer XY-Apertur-Stage. Die vier hochauflösenden Präzisionsachsen sind mit Gleitgewindetrieben von Feinmess Suhl – ebenfalls Teil der Steinmeyer-Gruppe – ausgestattet und bewegen die Lastplatte. Die Lastplatte lässt sich in zwei Achsen um 4° kippen und der darunter liegende Apertur-Durchlichttisch realisiert eine XY-Verstellung von bis 20 mm, wovon 10 mm für die rein laterale Verstellung übrigbleiben. Durch seine feinstufige Kipp- und XY-Bewegung unterstützt das XYZ Tip-Tilt System aktive Justageprozesse von Optiken, Lasern und Wafer-Substraten mit Submikrometerpräzision. In der Wafer- und DIE-Inspektion ermöglicht die offene Apertur durchgängige optische Pfade für DUV- und EUV-Beleuchtung, während die mechanische Stabilität auch bei höheren Lasten eine prozesssichere Ausrichtung in Mehrschicht- oder Packaging-Anwendungen garantiert.

Eine ideale Positionierlösung für anspruchsvolle Hightech-Prozesse

Selbstverständlich ist das Miniatur-XY-Phi-Delta Positioniersystem anwendungsspezifisch skalierbar und flexibel konfigurierbar. Zu den optionalen Features gehören unter anderem eine zusätzliche Drehung um die Hauptachse (rotary stage), erweiterte XY-Verfahrwege sowie Ausführungen für Reinraum (bis ISO 4, höher auf Anfrage), Vakuum (bis 10E-6 mbar, höher auf Anfrage) und UV/DUV-Strahlung. Ebenso ist die kundenspezifische Weiterentwicklung für OEM-Varianten mit CAD-Entwurf, Prototyping und Serienfertigung vorgesehen. Dank seiner kompakten, modularen Bauweise kann das System direkt in Inline-Produktions- oder Teststationen integriert werden.

„Mit dem MP220-4 bieten wir für reine Ausrichtprozesse, bei denen nur geringe Verfahrwege genutzt werden, eine dafür zugeschnittene kompakte, wirtschaftliche und präzise Alternative zu Hexapod-Systemen oder gestapelten Tischen – ideal für Active-Alignment-Prozesse in der Halbleiter- und Optikfertigung“, bringt Elger Matthes, Entwicklung und Produktmanagement bei Steinmeyer Mechatronik, die Vorteile auf den Punkt.